石英玻璃脫羥的工藝條件
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新聞發布時間：2013-5-17新聞瀏覽次數：3218新聞作者：錦泰特種玻璃
石英玻璃脫羥的工藝條件如下
1.脫氫氣氛。采用干燥（無水）和無氫氣的氣氛條件。一般采用真空脫羥（真空脫羥爐中進行）、在脫羥爐中通入干燥的氮氣脫羥或在干燥的空氣中脫羥。
2.脫羥溫度。脫羥實際是石英玻璃中Si-OH之間的-OH和H+反應生成H2O分子而擴散釋出的過程，因此溫度要達到石英玻璃的應變溫度，大量實驗證明，脫羥溫度在應變溫度和轉變溫度之間較為合適，溫度低、分子運動慢，脫羥時間長；溫度高，拖腔時間短，但玻璃在高溫下易產生變形或析晶。通常溫度在950-1100℃之間。
3.脫羥時間。脫羥時間取決于石英玻璃的制備工藝及規格尺寸、所采用的脫羥氣氛及溫度。
在正常熔制情況即氧化或中性氣氛下如SiCl4為原料、氫氧焰為熱源高溫水解氣相沉積合成的石英玻璃和以水晶為原料、氫氧焰為熱源氣煉熔制的和石英玻璃中大部分羥基呈穩定狀態，制品的規格尺寸達的話，即使脫羥時間再長也很難將其中的羥基全部脫出。通常0.5-1.0mm厚合成和氣煉石英玻璃片在真空或干燥的N2、1050℃的脫羥條件下，經過140h以上方可脫出50%左右的羥基，時間再長幾乎不再脫出。
而在富氫的還原性氣氛中熔制的石英玻璃如以H2為保護性氣體的連熔爐熔制的石英玻璃，由于氧缺陷的存在，石英玻璃中的羥基呈亞穩狀態，很容易擴散放出H2，如0.5-1.0mm厚煉熔石英玻璃管在真空或流動的干燥N2、1050℃的脫羥條件下，經過2h以上方可脫出90%以上的羥基。
同樣，若在富氫的還原性氣氛下合成或氣煉的石英玻璃，相同脫氫條件下，也可大幅增加脫羥量。
